阿斯麦首席执行官：收紧光刻机输华将加速中国自研替代设备
（安特卫普综合讯）荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）首席执行官富凯说，收紧光刻机对中国市场的出口管制，将加速中国自主研发替代设备的步伐。
被视为欧洲科技界领军人物之一的富凯（Christophe Fouquet）星期三（5月20日）参加在比利时安特卫普举行的科技活动接受路透社采访时呼吁，针对晶片制造设备输华的出口，制定更为一致的规则。
美国国会4月提出《硬件技术控制多边协同法案》（MATCH法案），要求荷兰和日本等盟友遵守美国出口管制措施，防止中国获取先进晶片制造设备。这项法案在现行极紫外光刻机（EUV）对华全面禁售的基础上，将浸没式深紫外光刻机（DUV）等设备也纳入全面限制。荷兰政府对上述法案予以反对。
富凯说，阿斯麦目前向中国出售的DUV设备，本身就是基于2015年的技术，为八代之前的晶片技术；如果进一步收紧限制，只会加速中国自主研发替代设备的步伐。
富凯比喻说：“如果我将你放到沙漠里，告诉你今后再也没有食物来源了——你需要多久才开垦出自己的菜园？这是存亡的问题。”
阿斯麦今年1月预计，公司今年在中国市场的销售额占比为20%，较去年的33%明显减少。按中国海关总署的数据统计，中国今年首季从荷兰进口的光刻设备同比下降24.3%。
中国全国“两会”（人大与政协年会）召开之际，中国半导体行业的九名领军人物集体撰文，呼吁在“十五五”（2026年至2030年）规划期间，举全国之力打造中国版的光刻机巨头阿斯麦，突破美国的技术封锁。